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脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer240,180, 120,80

價(jià)  格:詢價(jià)

產(chǎn)  地:美國(guó)更新時(shí)間:2020-10-29 14:11

品  牌:Neocera型  號(hào):Pioneer240,180, 120,80

狀  態(tài):正常點(diǎn)擊量:2787

400-006-7520
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)說(shuō)明是在上海非利加實(shí)業(yè)有限公司上看到的,謝謝!

上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

聯(lián) 系 人: 上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

電   話: 400-006-7520

傳   真: 400-006-7520

配送方式: 上海自提或三方快遞

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脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer240,180, 120,80 主要特點(diǎn):

PLD概念清晰易懂:激光束使靶子表面蒸發(fā),生產(chǎn)出與靶子同樣化學(xué)組成的膜。
PLD應(yīng)用廣泛:很多材料在多樣的氣體環(huán)境和很寬的氣體壓力范圍內(nèi)都可以鍍膜。
PLD節(jié)省成本:***束激光能夠供多個(gè)真空系統(tǒng)使用。
PLD高效率:在10至15分鐘,可生長(zhǎng)高質(zhì)量的樣品。
PLD可升***:當(dāng)需要大批量生產(chǎn)復(fù)合氧化物膜時(shí),Neocera公司將證明PLD作為生產(chǎn)工具的價(jià)值。

PLD 是***種復(fù)雜材料沉積的有效方法
脈沖激光沉積(Pulsed Laser Deposition)是***種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材,生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨(dú)特之處是能量源(脈沖激光)位于真空室的外面。這樣,在材料合成時(shí),工作壓力的動(dòng)態(tài)范圍很寬,達(dá)到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過(guò)控制鍍膜壓力和溫度,可以合成***系列具有獨(dú)特功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。另外,PLD 是***種“ 數(shù)字” 技術(shù),在納米尺度上進(jìn)行工藝控制(?/pulse)。

Neocera 在PLD 設(shè)備與工藝開(kāi)發(fā)方面具有不可超越的經(jīng)驗(yàn)

Pioneer 系列PLD 系統(tǒng)是全球研發(fā)領(lǐng)域***為廣泛使用的商業(yè)化系統(tǒng)

Neocera 不僅為客戶提供***基本的PLD 系統(tǒng),也提供完整的PLD 實(shí)驗(yàn)室交鑰匙方案


產(chǎn)品參數(shù)

脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer240,180, 120,80 技術(shù)參數(shù):

型號(hào)

Pioneer240

Pioneer180

Pioneer120

Pioneer80

最大wafer直徑

8”

6”

2”

1”

最大靶材數(shù)量

6個(gè)1” 或4個(gè)2”

6個(gè)1” 或4個(gè)2”

6個(gè)1” 或3個(gè)2”

4個(gè)1”

壓力(Torr)

<10-8

<10-8

<10-8

<10-8

真空室直徑

24”

18”

12”  

8”

基片加熱器

8”,旋轉(zhuǎn)

6”,旋轉(zhuǎn)

3”, 旋轉(zhuǎn)

2”,旋轉(zhuǎn)

最高樣品溫度

850 ° C

850 ° C

950 ° C

950 ° C

Turbo泵抽速
(liters/sec)

800

260

260

70

計(jì)算機(jī)控制

包括

包括

包括

包括

基片旋轉(zhuǎn)

包括

包括

-

-

基片預(yù)真空室

包括

選件

選件

-

掃描激光束系統(tǒng)

包括

選件

-

-

靶預(yù)真空室

包括

-

-

-

IBAD離子束輔助沉積

選件

選件

選件

-

CCS連續(xù)組成擴(kuò)展

選件

選件

-

-

高壓RHEED

選件

-

-

-

520 liters/sec泵

a/n

選件

-

-


產(chǎn)品介紹

脈沖激光沉積系統(tǒng)Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓越經(jīng)驗(yàn)的創(chuàng)新設(shè)計(jì)
Neocera 利用PLD 開(kāi)展了深入廣泛的研究,建立了獲得***佳薄膜質(zhì)量的臨界參數(shù),特別適用于沉積復(fù)雜氧化物薄膜。
這些思考已經(jīng)應(yīng)用于Pioneer 系統(tǒng)的設(shè)計(jì)之中。
很多復(fù)雜氧化物薄膜在相對(duì)高的氧壓(>100 Torr)下冷卻可獲得更高的質(zhì)量。所有Pioneer 系統(tǒng)都具備此功能(壓力范圍可從額定初始?jí)簭?qiáng)到大氣壓)。這也有益于納米粒子的生成。
Pioneer PLD 系統(tǒng)的激光束入射角為45°,保持了激光密度在靶材上的***大均勻性,同時(shí)避免使用復(fù)雜而昂貴的光學(xué)部件。更大的入射角能夠拉長(zhǎng)靶材上的激光斑點(diǎn),導(dǎo)致密度均勻性的損失。
為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵,消除油的回流對(duì)薄膜質(zhì)量的影響,所有Pioneer 系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)配置都采用無(wú)油泵系統(tǒng)。
我們的研究表明靶和基片的距離是獲得***佳薄膜質(zhì)量的關(guān)鍵參數(shù)。Pioneer 系統(tǒng)可以控制靶材和基片的距離,以達(dá)到***優(yōu)的沉積條件。




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