德***Raith電子束光刻系統
1.掃描速度有：2.5MHz,4MHz，6MHz和10MHz多種選擇
2.工件臺移動：45mmX45mm，150mmX150mm，200mmX200mm
3.激光工件臺的激光定位精度為2nm
主要特點1.可與多種SEM，FIB相結合形成電子束光刻系統
2.可提供三種型號的完整的電子束光刻系統 (Raith50, Raith150, e_LiNE)
3.價格合理，特別適用于學校和科研單位
4.可根據用戶不同需求訂制配置
儀器介紹Raith是***際***的開發和生產電子束光刻系統的專業公司。該公司以其優越的性能和適
中的價格為納米及亞微米結構的科研和生產服務，贏得了世界范圍內的包括IBM，AT&T
Stanford, Cambridge等300多***用戶。目前其主要產品和服務為：
1. 完整的電子束光刻系統Raith50， Raith150和e_LiNE：
1） e_LiNE可以用于加工六英寸的硅片，而Raith 150可以用于加工八英寸的硅片。
2） 使用壓電平衡和靜電吸盤保持硅片的聚焦平面。
3） 激光工件臺的激光定位精度為2nm。
4） 掃描速度為10MHz的高速圖形發生器。
5） 超長穩定性和極高亮度的熱場致發射電子槍和高速靜電束閘。
其主要應用方面是：
1） 電子束直寫應用。例如用于Si/GaAs 兼容工藝，研究用掩膜制造，納米光刻（例如
單電子器件、量子器件制作等）。
2） 高頻電子器件中的混合光刻（Mix & Match）。
3） 圖形線寬和圖形位移測量等
2．可根據用戶的應用情況和設備情況為用戶的微細結構研究和開發提供經濟實用、方便
快捷的電子束光刻技術方案。可根據用戶的要求將用戶已經購買的各種不同型號的掃描
電子顯微鏡（JEOL，PHILIPS，AMRAY，HITACHI，CAMBRIDGE，ZEISS，等等），掃描
透射電子顯微鏡和聚焦離子束顯微鏡配備上圖形制作的功能，可以用它來制作微細圖形，
同時又不失去顯微鏡的功能。
3．電子束曝光中使用的鄰近效應校正軟件和層***結構的GDSⅡ編輯和瀏覽軟件。
4．大行程、高精度、激光干涉定位的超高真空工件臺。
5．半導體工業中造成失效的缺陷檢查和缺陷的CAD定位、集成電路解剖和圖象采集軟件
及工件臺。
6．各種特殊電子顯微鏡的配件的制作。如大行程、360度旋轉、大傾斜角度(傾斜時可
保持所選樣品點在中心位置不變)、高精度定位、拉伸、扭曲、加熱及冷卻或根據用
戶提出的特殊要求的樣品臺。
滬公網安備31011502016460號
