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Semilab SE-2000 光譜型橢偏儀

價  格:詢價

產(chǎn)  地:更新時間:2021-01-18 16:44

品  牌:型  號:SE-2000

狀  態(tài):正常點擊量:2578

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Semilab SE-2000 光譜型橢偏儀

Semilab SE-2000 Spectroscopic Ellipsometer


SEMILAB 光譜型橢偏儀是多功能薄膜測試系統(tǒng),適合各種薄膜材料的研究。


產(chǎn)品描述

SE2000全光譜橢偏測試平臺基于橢圓偏振測試技術(shù),采用的旋轉(zhuǎn)補償器,結(jié)合光纖技術(shù)將偏振光信號傳輸至分段光譜優(yōu)化的高分辨率單色儀或陣列式多通道攝譜儀,測得線偏振光經(jīng)過樣品反射后的偏振態(tài)變化情況,并通過樣品光學模型的建立,計算出單層或多層薄膜結(jié)構(gòu)的厚度、折射率和消光系數(shù),實現(xiàn)精確、快速、穩(wěn)定的寬光譜橢偏測試。


SE2000全光譜橢偏測試平臺是Semilab針對產(chǎn)線和實驗線推出的多功能高速測試平臺。模塊化的設(shè)計,可選配300mm樣品臺或350*450mm平板樣品臺,Robot上片系統(tǒng),圖形識別系統(tǒng)和數(shù)據(jù)通信系統(tǒng),實現(xiàn)高速在線監(jiān)控。在測試功能方面,可自由組合多種從190nm深紫外光譜至2400nm近紅外光譜的探測器,并可拓展FTIR紅外光譜測試模組、渦電流法非接觸式或4PP接觸式方塊電阻測試模組、Mueller Matrix各項異性材料測試模組、Raman結(jié)晶率測試模組、電子遷移率表征模組、LBIC光誘導電流測試模組、反射干涉測試模組等多種功能,使SE2000成為光學和電學特性表征綜合測試系統(tǒng)。


產(chǎn)品特點

業(yè)界專業(yè)光譜型橢偏儀測試設(shè)備廠商

業(yè)界標準測試機構(gòu)定標設(shè)備,參與發(fā)布中華人民共和***橢圓偏振測試技術(shù)標準

業(yè)界較寬測試光譜范圍,選配190nm-25um,并可自動切換快速探測模式和高精度探測模式

配置實時對焦傳感器,實現(xiàn)高速測量

選配Robot上片系統(tǒng),圖形識別系統(tǒng)和數(shù)據(jù)通信系統(tǒng),實現(xiàn)在線監(jiān)控

獨特的樣品臺結(jié)構(gòu)設(shè)計,優(yōu)化固定大尺寸的柔性材料

模塊化設(shè)計,可綜合監(jiān)控樣品光學和電學特性

定期免費升***SOPRA材料數(shù)據(jù)庫

開放光學模型擬合分析過程,方便用戶優(yōu)化測試菜單


主要應(yīng)用

光伏行業(yè):薄膜電池透明導電膜、非晶硅微晶硅薄膜電池、CIGS薄膜電池、CdTe薄膜電池、有機電池、染劑敏感太陽能電池

半導體行業(yè):High-K、Low-K、金屬、光刻工藝、半導體鍍膜工藝、外延工藝

平板顯示行業(yè):TFT、OLED、LTPS、IGZO、彩色濾光片

光電行業(yè):光波導、減反膜、III-V族器件、MEMS、溶膠凝膠


主要技術(shù)指標

測試速度:<1 sec (快速測試模式)

               <120 sec (高分辨率測試模式)

測量光譜分辨率:<0.5nm@633nm (高分辨率測試模式)

                        <0.8nm@633nm (快速測試模式)

*da樣品尺寸: 300mm

厚度測量范圍:0.01nm-50um

厚度測試精度:0.02nm @120nm SiO2 on Si

折射率測試精度:0.002 @120nm SiO2 on Si


不同配置:

SE-2xxx-全自動測試平臺

IRSE-紅外光譜型橢偏儀

SE-1000-低成本手動測試平臺

SE-1100-適于測試柔性襯底材料

EP-橢偏測孔隙率

LE-103PV-激光型橢偏儀


產(chǎn)品參數(shù)


產(chǎn)品介紹




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